这背后，EUV光刻机的缺失，是中国芯片制造无法进一步升级的掣肘。近日，一只来自清华大学的科研团队发表了一篇有关EUV光源的研究成果，而EUV光源正是EUV光刻机的核心基础。这项发现也给中国自研光刻机带来了技术上支持。稳态微…
事实上，除了LPP-EUV光源，探索光刻光源国产化过程中，以中国科学院、华中科技大学为代表的多家科研院所和半导体厂商亦进行了不少另辟蹊径的探索。.其中双激光束技术路线的出现，有效规避了国外专利和主流EUV光源研发难题，让光刻机光源突破光学...
《Nature》刊登清华团队EUV光源新突破，有望解决国产光刻机难题,比起理论科学上的突破，产业链的发展更为重要。作者|来自镁客星球的家衡刘爽无法制造逻辑、存储等高端芯片，是中国半导体行业发展长期以来难以解决的痛点。
说一下国产EUV光刻机进展程度.调查了一下国产EUV光刻机进展的资料，简单介绍一下公开资料报道的情况，浸入式光刻的分辨率和EUV光源强度有关，250W是一个应用节点，可以达到18nm分辨率（图1，参考资料1）。.ASML也是在当时这个时间达到这个水平（图2，参考...
光源不是国产光刻机的主要瓶颈先不提该研究主要是对加速器和同步辐射领域的研究，就算该研究可以无缝切换到光刻机上去。从时间上说，靠SSMB光源赶超西方，也十分困难。其他方式生产的EUV光源最早始于日本1986年的研究，在2000年前后…
大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。目前ASML公司采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长13.5纳米的EUV光源，功率约250瓦。而随着芯片工艺节点的不断缩小，预计对EUV光源功率的要求将不断提升，达到千瓦量级。
编者按：一位从事国家最紧缺的EUV光刻机光源技术研究的哈工大博士，为何去了湖北二线城市一个可能不具备EUV光源研究的大学？.大事记.2005年.：美国公司Energetiq发表无电极EUV光刻光源专利，售出首台10WEUV光源.2005年.：张兴强开始攻读哈工大博士，研究极...
EUV光源系统1、EUV光源系统的组成EUV光源由光的产生、光的收集、光谱的纯化与均匀化三大单元组成。相关的工作元器件主要包括大功率CO2激光器、多层涂层镜、负载、光收集器、掩膜版、投影光学系(Xe或Sn)形成等离子体，等离子利用多层膜反射...
中国自研的EUV光刻机已经迟到了，但肯定不会缺席！.中国自研的EUV光刻机已经迟到了，但肯定不会缺席！.说到光刻机，是中国芯片工业和中国科技爱好者的隐痛！.从美国施压ASML到现在禁止台积电等芯片企业为华为服务。.我们处处感受到光刻机的掣肘...
就EUV光源来说，哈工大做了一台样机。这台样机用的就是已经被认为商业化不可行的DPP技术，2018年的论文显示，只有0.1w的功率。那么哈工大这个样机为啥功率那么低，这中间差了什么呢？
下一代光刻技术的EUV光源收集系统的发展第柏卷第1期12100年1月1激光与红外LERAS&IRARNFEDV0.0..114No1Noebr20vme,01文章编号:0-7(001-135110821)16-...
论文链接：https://nature/articles/s41586-021-03203-0一、SSMB技术：整合两种光源优势，或能用于改良EUV光源该论文报告了一种新型粒子加速器光源稳态微束（SSMB）的首个...
通过探测辐射,研究团队验证了微聚束的形成,随后又验证了SSMB的工作机理。该粒子可以获得光刻机所需要的极紫外(EUV)波段,这为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。因此,《Nature...
无法制造逻辑、存储等高端芯片，是中国半导体行业发展长期以来难以解决的痛点。这背后，EUV光刻机的缺失，是中国芯片制造无法进一步升级的掣肘。近日，一只来自清华大学的科研团队发...
目前,清华大学正积极推动SSMBEUV光源在国家层面的立项工作。清华SSMB研究组已向国家发改委提交了“稳态微聚束极紫外光源研究装置”的项目建议书,申报了“十四五”国家重大科技基础...
无法制造逻辑、存储等高端芯片,是中国半导体行业发展长期以来难以解决的痛点。这背后,EUV光刻机的缺失,是中国芯片制造无法进一步升级的掣肘。近日,一只来自清华大学的科研团队发表...
光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻。大功率的EU...
目前,清华大学正积极推动SSMBEUV光源在国家层面的立项工作。清华SSMB研究组已向国家发改委提交了“稳态微聚束极紫外光源研究装置”的项目建议书,申报了“十四...
无法制造逻辑、存储等高端芯片,是中国半导体行业发展长期以来难以解决的痛点。这背后,EUV光刻机的缺失,是中国芯片制造无法进一步升级的掣肘。近日,一只来自清华大学的科研团队发表...
尽管目前有激光等离子体光源、放电光源、同步辐射光源、高次谐波、放电泵浦X射线等高平均功率EUV光源,但实际上能满足几大光刻设备制造商要求的只有激光等离子体光源,也就是LPP。其他...