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从电镀工艺条件的角度,应用Minitab软件研究了VCP线整板电镀铜的均匀性问题.利用红外分析光谱仪分析了基板树脂的成分;在温度为50℃~70℃下,基板树脂经碱性高锰酸钾粗化体系粗化10min~15min可获得良好表面粗糙度;在基板上喷溅铜导电层后进行电镀铜,结果
联能科技（深圳）有限公司UnimicronTechnology(ShenZhen)Co.,Ltd.TO:周主任CC:杨经理、刘课长From：王永锋一、试验目的测试B线经调整后均匀性是否满足本公司品质要求APPR:Date:2005-06-26Subject：垂直电镀线均匀性测试报告二...
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之前讲座回顾：第一讲电镀的定义及门类第二讲关于水第三讲表面活性物质与表面活性剂第四讲电极与极化的概念第五讲电镀液的组分及其作用第六讲电镀的工艺条件第七讲电镀液的电流效率第八讲影响镀层厚度分布均匀性的因素第九讲镀前除油
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对于电镀生产线的工艺工程师而言，可以通过控制更多的参数，如辅助工具、Panel在飞把（FlightBar）上的数量和位置等来控制镀层均匀性。但除了这些参数外，镀层的均匀性还取决于如何布置面板上各个单板（Board）的花纹的排布，这些都可以通过软件进行预测和自动推荐。
电镀铜和化学镀铜的性能分析和影响因素电镀铜的性能分析及影响因素(作者)摘要:关键词:英文摘要:0绪论电镀和化学镀概述在国民经济的各个生产和科学发展领域里,如机械.无线电.仪表.交通.航空及船舶工业中,在日用品的生产和医疗器械等设备的制造中,金属镀层都有极为广泛而应用.